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中国对半导体的需求现在超过了世界总量的三分之一。正因为我们的需求量大,加上美国的技术封锁,中国最大的困境就是不能拥有自主知识产权的芯片技术,很多方面需要进口。

但正是因为目前的芯片困境,我们才知道自主研发的重要性。记得上海微电子曾经说过,2021年后要交付28nm技术的技术,短短两年就可以实现,这无疑让我们看到了中芯的希望。

这次他们带来了好消息。他们取得了巨大的突破。他们在光刻机上开发了一个22nm的工艺,就是我们在不久的将来会有自己的光刻机,而不是依赖荷兰公司,虽然我们之间的技术差距还是很大的。

但这是一个非常重要的科技进步,从技术上我们已经超过日本,成为世界第二,仅次于荷兰。其实荷兰的光刻机很多都是美国专利,所以他牵制我们很简单,但是如果我们有自己的光刻机,情况就反过来了。

【/h/】22nm的紫外技术已经是国内极限了,和荷兰的5nm有很大区别,但这不是我们气馁的原因。虽然SMIC从荷兰公司获得了7纳米光刻机,但由于堵塞,还没有完成交付,这阻碍了5g技术在中国的发展。

【/h/】不过光刻机这一重大突破会有所作为,上海微电子做出了很大贡献。现在上海微电子和比亚迪有完整的产业链,已经超过了日本的高端市场。asml的技术不是荷兰公司,而是整个西方世界的技术融合,所以我们的对手其实是整个西方世界。

中国国产光刻机获得突破,技术超越日本,稳居全球第二

我觉得荷兰光刻之所以这么先进,是因为技术领先一步,中国是后来者。只要中国分公司工人不懈努力,光刻机技术和制造在不久的将来一定会赶上荷兰。那些羡慕外国的人不应该无限扩大前进道路上的困难,吓跑西方国家可以完成的中国正在进步的科学技术。我相信我们国家一定能做到,只是时间问题。

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